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氧化物瞬态特性及其薄膜晶体管研究

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氧化物瞬态特性及其薄膜晶体管研究
论文目录
 
摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
符号对照表第11-12页
缩略语对照表第12-16页
第一章 绪论第16-22页
  1.1 研究背景第16页
  1.2 氧化物TFT概述第16-20页
    1.2.1 氧化物TFT的发展第16-17页
    1.2.2 氧化物TFT的工作原理第17-18页
    1.2.3 氧化物TFT的主要参数第18-20页
  1.3 瞬态氧化物TFT的发展及研究现状第20-21页
    1.3.1 瞬态氧化物TFT的发展第20页
    1.3.2 瞬态氧化物TFT的研究现状第20-21页
  1.4 本文主要研究内容第21-22页
第二章 氧化物半导体材料的性质及氧化物TFT的器件结构第22-36页
  2.1 氧化物半导体材料性质介绍第22-24页
    2.1.1 氧化锌半导体材料第22-23页
    2.1.2 氧化铟半导体材料第23页
    2.1.3 氧化镓半导体材料第23-24页
  2.2 氧化物TFT的载流子输运特性第24-25页
  2.3 氧化物TFT的稳定性第25-29页
    2.3.1 氧化物TFT的偏压稳定性第25-26页
    2.3.2 光辐照对氧化物TFT性能的影响第26-28页
    2.3.3 其他条件对氧化物TFT的影响第28-29页
  2.4 氧化物TFT有源层的制备方法第29-31页
    2.4.1 溅射法第29页
    2.4.2 脉冲激光沉积第29-30页
    2.4.3 分子束外延第30页
    2.4.4 金属有机物气相沉积第30-31页
    2.4.5 溶液法第31页
  2.5 氧化物TFT的器件结构第31-34页
  2.6 本章小结第34-36页
第三章 实验方法第36-42页
  3.1 试剂与仪器第36-37页
    3.1.1 主要试剂第36页
    3.1.2 主要仪器第36-37页
  3.2 溶液法制备氧化锌薄膜第37-38页
    3.2.1 氧化锌前驱液的制备第37-38页
    3.2.2 氧化物前驱液的旋涂及退火第38页
  3.3 制备氧化物TFT器件第38-39页
  3.4 材料的表征第39-40页
  3.5 器件的表征第40-41页
    3.5.1 基本I-V曲线测试第40页
    3.5.2 器件长期存放稳定性测试第40页
    3.5.3 器件偏压稳定性测试第40-41页
  3.6 本章小结第41-42页
第四章 氧化锌材料表征及溶解特性研究第42-50页
  4.1 氧化锌材料表征第42-44页
    4.1.1 薄膜形貌表征第42页
    4.1.2 薄膜的光学特性第42-44页
  4.2 氧化锌的溶解特性第44-49页
    4.2.1 实验准备第44-45页
    4.2.2 溶解特性第45-49页
  4.3 本章小结第49-50页
第五章 氧化物TFT性能研究第50-68页
  5.1 浸泡铝方式掺杂铝氧化锌TFT第50-54页
    5.1.1 器件制备第50-51页
    5.1.2 器件表征第51-54页
  5.2 磁控溅射方式掺杂铝氧化锌TFT第54-60页
    5.2.1 器件制备第54-55页
    5.2.2 器件表征第55-60页
  5.3 IGZO TFT第60-62页
    5.3.1 器件制备第60-61页
    5.3.2 器件表征第61-62页
  5.4 IZO TFT第62-65页
    5.4.1 器件制备第62页
    5.4.2 器件表征第62-65页
  5.5 氧化锌TFT瞬态器件的制备与溶解第65-66页
  5.6 本章小结第66-68页
第六章 总结与展望第68-70页
  6.1 总结第68-69页
  6.2 展望第69-70页
参考文献第70-76页
致谢第76-78页
作者简介第78-79页

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