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聚合物基微纳多层光学薄膜材料的纳米改性

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聚合物基微纳多层光学薄膜材料的纳米改性
论文目录
 
摘要第1-6页
ABSTRACT第6-15页
符号说明第15-17页
第一章 绪论第17-31页
  1.1 聚合物基纳米复合材料的制备和应用第17-25页
    1.1.1 聚合物基纳米复合材料的发展第17-18页
    1.1.2 聚合物基光学薄膜的应用第18-19页
    1.1.3 聚合物基光学薄膜的研究进展第19-23页
    1.1.4 新型微纳多层光学膜制备技术第23-25页
  1.2 计算机模拟技术第25-27页
    1.2.1 分子模拟在高聚物分析中的应用第25页
    1.2.2 本文涉及到的分子模拟软件第25-27页
  1.3 研究目的和意义第27-28页
  1.4 主要研究内容第28-29页
  1.5 本课题创新之处第29-31页
第二章 纳米粒子在高聚物中分散性的分子动力学模拟第31-39页
  2.1 引言第31-32页
  2.2 模型和模拟细节第32-34页
    2.2.1 模型第32-33页
    2.2.2 模拟细节第33-34页
  2.3 结果与讨论第34-38页
    2.3.1 薄膜空间限制作用对纳米粒子分散性的影响第34-35页
    2.3.2 挤压作用对纳米粒子分散性的影响第35-36页
    2.3.3 薄膜体系变形速率对纳米粒子分散性的影响第36-38页
  2.4 本章小结第38-39页
第三章 纳米粒子对聚合物力学性能和界面结合情况影响的分子动力学模拟第39-51页
  3.1 引言第39页
  3.2 模型与模拟方法第39-49页
    3.2.1 改性纳米二氧化硅模型第39-41页
    3.2.2 PMMA薄膜模型第41-42页
    3.2.3 纳米Si_O2/PMMA模拟盒子第42-43页
    3.2.4 模拟方法第43-49页
  3.3 本章小结第49-51页
第四章 纳米-SiO_2/PMMA多层高反射复合材料的制备和性能研究第51-65页
  4.1 引言第51页
  4.2 实验第51-55页
    4.2.1 实验原料第51页
    4.2.2 实验设备及仪器第51-53页
    4.2.3 制备过程第53-54页
    4.2.4 测试与表征第54-55页
  4.3 结果与讨论第55-63页
    4.3.1 偶联剂含量对相容性的影响第55-57页
    4.3.2 偶联剂的作用原理第57-58页
    4.3.3 纳米二氧化硅在单层和多层聚甲基丙烯酸甲酯基体中的分散性第58-60页
    4.3.4 纳米二氧化硅的含量对复合材料力学性能的影响第60-62页
    4.3.5 纳米二氧化硅的含量对复合材料反射率的影响第62-63页
  4.4 本章小结第63-65页
第五章 纳米-TiO_2/PMMA高紫外吸光复合材料的制备和性能研究第65-73页
  5.1 引言第65页
  5.2 实验第65-68页
    5.2.1 实验原料第65页
    5.2.2 实验设备及仪器第65-66页
    5.2.3 制备过程第66-67页
    5.2.4 测试与表征第67-68页
  5.3 结果与讨论第68-72页
    5.3.1 纳米二氧化钛在单层和多层聚甲基丙烯酸甲酯基体中的分散性第68-69页
    5.3.2 纳米二氧化钛含量对复合材料光学性能的影响第69-71页
    5.3.3 纳米二氧化钛含量对复合材料热稳定性的影响第71-72页
  5.4 本章小结第72-73页
第六章 总结与展望第73-77页
  6.1 课题工作总结第73-74页
  6.2 研究工作展望第74-77页
参考文献第77-85页
致谢第85-87页
研究成果及发表的学术论文第87-89页
作者及导师简介第89-90页
附表第90-91页

本篇论文共91页,点击这进入下载页面
 
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